ＣＭＰ４００付近を頂部とする起伏は、基盤岩上位の堆積層に対応する反射面に対しても変形を与えていることが明らかである。この構造は、探査断面では基盤岩の上面に断層のような不連続が認められず、基盤岩か、あるいは基盤岩とは異なる岩体が盛り上がるような形状をなしている。また、ＣＭＰ７８０付近を境として基盤岩深度に約５００ｍの鉛直落差が推定され、探査断面において北側が上昇した断層構造の存在する可能性があるが、従来の地形地質情報では明確に指摘されていない構造である。この探査区間は水路部を通過しているため、探査条件が完全に良好な状態ではなく、深度５００ｍ付近の反射面は見かけ上連続しているようにも解釈される。断層構造の存在そのものやその連続性を含めて、今後詳細に検討を加える必要があると考えられる。

図６−２　地質解釈断面図